超高品質(zhì)氟化鎂晶體微腔的生產(chǎn)工藝主要包括三個(gè)部分:成型、粗拋和精拋:一是采用點(diǎn)射金剛石切割技術(shù)初步成型氟化鎂晶體微腔，減少微腔地球赤道表面高級(jí)極端化的危害；第二，依次進(jìn)行9μm，6μm和3μm粗磨拋光粒度；最后，依次1μm，0.5μm和0.1μm精心打磨拋光粒度。μm在粒度分布拋光環(huán)節(jié)中，將拋光壓力拋光拋光時(shí)間分別設(shè)置為15。g和2h，軸承轉(zhuǎn)速設(shè)置為250000r/min，這種粒度分布拋光后，氟化鎂微盤腔的質(zhì)量因子Q值可達(dá)107數(shù)量級(jí)。.5μm和0.1μm粒度拋光拋光環(huán)節(jié)，拋光壓力拋光拋光拋光時(shí)間各設(shè)置為10。g和4h，軸承轉(zhuǎn)速設(shè)置為20000r/min。

極高Q值氟化鎂微腔可用作超窄線距外腔激光發(fā)生器、集成光學(xué)振蕩器、串聯(lián)諧振電子光學(xué)陀螺圖片等程序模塊的關(guān)鍵重要部件，二氧化硅光學(xué)鍍膜材料廠家可大大提高工作中的綜合性能和可靠性。北京郵電大學(xué)研究小組科學(xué)研究的超精密制備方法和加工平臺(tái)適用于mm級(jí)優(yōu)質(zhì)電子光學(xué)晶體微腔，具有不同的原材料和尺寸，有利于進(jìn)一步推動(dòng)我國優(yōu)質(zhì)電子光學(xué)晶體微腔領(lǐng)域的研發(fā)和關(guān)鍵技術(shù)。

氟化鎂結(jié)晶回聲壁音響電子光學(xué)微腔的質(zhì)量因素Q值受到很多方面的影響。通過降低內(nèi)腔外觀粗糙度，降低透射消耗，提高氟化鎂結(jié)晶微腔Q值是一種切實(shí)可行的技術(shù)方法。微腔外壁外觀粗糙度受制于生產(chǎn)加工制備方法水平。經(jīng)過長(zhǎng)期的研究和探索，北京郵電大學(xué)射頻光子學(xué)實(shí)驗(yàn)室完成了一套完整的超精密加工工藝。同時(shí)，結(jié)合研究小組，獨(dú)立開發(fā)了一個(gè)超精密加工服務(wù)平臺(tái)，生產(chǎn)出具有9克亞nm外觀粗糙度的氟化鎂結(jié)晶微盤腔，采用國際標(biāo)準(zhǔn)輸音量。營(yíng)口市榮興達(dá)科技實(shí)業(yè)股份有限公司歡迎您的來電咨詢