真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區(qū)別總述二氧化硅光學(xué)鍍膜材料

2023-01-31 13:50:00

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鍍膜靶材是用物理或化學(xué)的方法在靶材表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜,或鍍一層金屬膜,目的是改變靶材表面的反射和透射特性.而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學(xué)鍍膜,有不少用戶不知道這二者的區(qū)別,今天中諾新材的小編就給大家講解下真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區(qū)別是什么.

一、概念的區(qū)別

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,二氧化硅光學(xué)鍍膜材料使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法.例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等.

2、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程.在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求.常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜.

鍍膜能力介紹

鍍膜設(shè)備：電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)。

最大樣品尺寸：190*250。

鍍膜基底材料種類：各種光學(xué)玻璃。

鍍膜材料：氧化鈰、氧化鋁、氧化鉿、ITO、一氧化硅，二氧化硅、五氧化二鉭、五氧化二鈮、氧化鈦、金、銀、銅、鉻、鉻鎳合金、鋁、鈦。

溫度范圍：20-300℃。

最大厚度：150毫米。

鍍膜種類：增透膜，寬帶增透膜，介質(zhì)高反膜，金屬反射膜，金屬加強(qiáng)膜，金屬導(dǎo)電膜，透明導(dǎo)電膜，前截止膜，后截止膜，偏振膜，增透+防水膜，高反+防水膜等等。

鍍膜的質(zhì)量直接依賴于其制備工藝，二氧化硅光學(xué)鍍膜材料廠家主要包括物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、離子束輔助沉積、分子束外延、金屬有機(jī)物分解法、溶膠凝膠法等多種制備方法。營口市榮興達(dá)科技實業(yè)股份有限公司歡迎您的來電咨詢

二氧化硅光學(xué)鍍膜材料廠家