在電解鋁行業(yè)中氟化鋁是一種重要的添加劑，在電解鋁中氟化鋁起到分離碳渣，提高電解質(zhì)的導(dǎo)電率的作用。今天小編就結(jié)合整理的資料為大家介紹一下在電解鋁時(shí)氟化鋁的添加方法和注意事項(xiàng)。

   氟化鋁在添加時(shí)應(yīng)該添加在氧化鋁面殼層的中間，二氧化硅光學(xué)鍍膜材料也就是在加工后先添加一層氧化鋁，然后將氟化鋁均勻的灑在面殼層上。當(dāng)進(jìn)行下一次加工時(shí)，可以跳過(guò)扒料，將氟化鋁和面殼層一起加入到反應(yīng)槽內(nèi)。

   氟化鋁在添加時(shí)必須注意以下幾點(diǎn)：1、在添加氧化鋁時(shí)，不能將氟化鋁添加在電解質(zhì)的表面，也不能加在火眼和陽(yáng)極附近；2、在電解鋁生產(chǎn)出鋁時(shí)，最好不要添加氧化鋁；3、氟化鋁在使用時(shí)，和冰晶石混合使用可以減少氟化鋁的損耗。4、氟化鋁在出鋁后的第一次添加效果最好，平時(shí)氟化鋁只在電解槽小頭加工時(shí)添加既可。

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光學(xué)鍍膜鏡片通常涂單層或多層氟化鎂增透膜，單層增透膜可將反射降低到1.5%，多層增透膜可將反射降低到0.25%，因此如果整個(gè)范圍涂得適當(dāng)，透光率可達(dá)95%。涂有單層增透膜的鏡片通常為藍(lán)紫色或紅色，而涂有多層增透膜的鏡片則為淺綠色或深紫色

CVD 技術(shù)是在高溫下依靠化學(xué)反應(yīng)、把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜材料的技術(shù)。營(yíng)口市榮興達(dá)科技實(shí)業(yè)股份有限公司歡迎您的來(lái)電咨詢