氟化鎂【結(jié)構(gòu)或分子式】MgF2

【密度】3.148

【熔點(diǎn)（℃）】1266

【沸點(diǎn)（℃）】2239

【性狀】

白色四方粉晶。

【溶解情況】

微溶于水，溶于硝酸，不溶于乙醇。

【用途】

用于制造陶瓷、玻璃；冶金鎂金屬的助熔劑；光學(xué)儀器中鏡頭和濾光器的涂層；陰極射線(xiàn)屏的熒光材料；焊劑等。

【制備或來(lái)源】

將碳酸鎂用水調(diào)糊逐漸倒入沖稀一半的氫氟酸中反應(yīng)，將沉淀在400℃干燥而得。

【毒性及防護(hù)】

本品有毒，操作氟化鎂的人員應(yīng)穿戴必要的防護(hù)用品,中毒后，應(yīng)飲用大量蛋清并送醫(yī)，氟化鎂微溶于水沸點(diǎn)在2239攝氏度 熔點(diǎn)在1266攝氏度 高溫也不可能去除它的毒性 在于本品接觸時(shí)應(yīng)帶防毒用具

真空鍍膜有兩種方法，一種是蒸發(fā)鍍膜，一種是濺射鍍膜。實(shí)驗(yàn)采用蒸發(fā)法。薄膜材料在真空中加熱和汽化，以便它在合適的表面上積聚。在玻璃上涂上透明導(dǎo)電的銦錫氧化膜(ITO膜)，其可見(jiàn)光透過(guò)率超過(guò)80%，紫外吸收率超過(guò)85%，紅外反射率超過(guò)70%。廣泛應(yīng)用于冰箱、展示柜玻璃、汽車(chē)、機(jī)車(chē)、飛機(jī)的風(fēng)擋玻璃，以及液晶顯示器、電致發(fā)光等離子顯示器等Z佳材料。

真空蒸發(fā)鍍膜是指在真空條件下，利用膜材加熱裝置(稱(chēng)為蒸發(fā)源)的熱能，通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在基板材料表面的一種沉積技術(shù)。被蒸發(fā)的物質(zhì)是用真空蒸發(fā)鍍膜法沉積薄膜材料的原材料，稱(chēng)之為蒸鍍材料。

真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)一般由三個(gè)部分組成：真空室、蒸發(fā)源或蒸發(fā)加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置二氧化硅光學(xué)鍍膜材料。在真空中為了蒸發(fā)待沉積的材料，需要容器來(lái)支撐或盛裝蒸發(fā)物，同時(shí)需要提供蒸發(fā)熱使蒸發(fā)物達(dá)到足夠高的溫度以產(chǎn)生所需的蒸汽壓。真空蒸發(fā)鍍膜的基本原理如下：

真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)具有簡(jiǎn)單便利、操作方便、成膜速度快等特點(diǎn)，是應(yīng)用廣泛的鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用于小尺寸基板材料的鍍膜。