氟化鎂降低氧化鋁的溶解度和溶解速度。在現(xiàn)有下料方式下，極易使下料點(diǎn)附近電解質(zhì)中氧化鋁濃度過(guò)飽和而在槽底造成大量沉淀。低分子比也會(huì)使電解質(zhì)初晶溫度降低。故當(dāng)氟化鎂含量很高時(shí)，決不允許采用低分子比。

  當(dāng)氟化鎂含量逐步下降時(shí)，可適當(dāng)調(diào)低分子比。另外，氟化鎂會(huì)增大鋁-電解質(zhì)界面的張力，使鋁的溶解損失降低；增大電解質(zhì)與炭素材料界面張力，有利炭渣排出。

  特別值得一提的是氟化鎂是一種礦化劑，可加速r-Al2O3向α-Al2O3轉(zhuǎn)變，形成含百分之八十α-Al2O3的側(cè)部爐幫，對(duì)提高電流效率、保持側(cè)部筑塊、人造伸腿和局部陰極炭塊是有利的。

  但問(wèn)題的反面是，過(guò)高的氟化鎂也會(huì)促進(jìn)爐底沉淀迅速轉(zhuǎn)化成爐底結(jié)殼，二氧化硅光學(xué)鍍膜材料廠家這對(duì)我們的生產(chǎn)是有害的。除繼續(xù)降過(guò)高的氟化鎂含量外，目前可采取適當(dāng)降低鋁水平，使槽熱源中心向槽底靠攏，保持較高過(guò)熱度，控制適當(dāng)?shù)男?yīng)系數(shù)，減少沉淀生成等綜合措施逐步進(jìn)行調(diào)整。

真空鍍膜技術(shù)憑借其環(huán)保、節(jié)能、安全、可控的特點(diǎn)，在國(guó)家可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略下，市場(chǎng)覆蓋面迅速擴(kuò)大;另一方面，表面處理技術(shù)對(duì)被加工對(duì)象的表面進(jìn)行各種改性改造，強(qiáng)化了被處理對(duì)象表面的耐磨性、耐腐蝕性、光滑度等性能，使被加工對(duì)象在使用過(guò)程中大大減少了損耗和浪費(fèi)，達(dá)到節(jié)能環(huán)保的效果，符合國(guó)家對(duì)行業(yè)政策和行業(yè)規(guī)劃的指導(dǎo)。真空鍍膜的高性價(jià)比和低污染的特點(diǎn)將成為表面處理行業(yè)的主流技術(shù)。

靶材的應(yīng)用率、堆積功率、薄膜平均性、二氧化硅光學(xué)鍍膜材料鍍膜進(jìn)程中的波動(dòng)性以及稱心各種蕪雜的鍍膜要求等成績(jī)。關(guān)于大少數(shù)磁控鍍膜設(shè)備特別是立體磁控濺射靶，由于正交電磁場(chǎng)對(duì)濺射離子的作用聯(lián)絡(luò)，將其約束在閉合磁力線中，使得濺射靶材在濺射中發(fā)生不平均沖蝕景象，一旦靶材刻蝕穿，靶材即作廢，進(jìn)而構(gòu)成靶材的應(yīng)用率一向較低，普通是30%以下。靶材是磁控濺射進(jìn)程中的根本耗材，不只運(yùn)用量大，并且靶材應(yīng)用率的凹凸對(duì)工藝進(jìn)程及出產(chǎn)周期起著至關(guān)重要的作用，雖然如今靶材可以回收再應(yīng)用，可是其仍然對(duì)企業(yè)本錢操控上以及提高企業(yè)產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力有很大的影響。因此想方設(shè)法提高靶材應(yīng)用率是肯定的。對(duì)此國(guó)際外許多廠商也做出了許多改善的措施。營(yíng)口市榮興達(dá)科技實(shí)業(yè)股份有限公司歡迎您的來(lái)電咨詢