氟化鎂增透膜的厚度均勻性控制二氧化硅光學(xué)鍍膜材料

2022-12-28 09:27:22

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作為兩類最常見的真空蒸發(fā)鍍膜，熱電阻蒸鍍是將原料置于采用鉬、鎢等高熔點(diǎn)金屬制作成的蒸發(fā)舟上，通過(guò)電流加熱蒸發(fā)；電子束蒸鍍是將原料置于冷坩堝中，通過(guò)電子束加熱蒸發(fā)。

由于氟化鎂的熔點(diǎn)較低，二氧化硅光學(xué)鍍膜材料采用熱電阻蒸鍍，阻蒸電流可調(diào)范圍大，可通過(guò)緩慢調(diào)節(jié)電流進(jìn)行預(yù)蒸鍍，消除原料中的氣體和水分等雜質(zhì)，同時(shí)能夠有效地防止因電流密度過(guò)大在成原料受熱不均勻引起的噴濺，從而蒸鍍均勻無(wú)殘留。

將所述電鍍材料制成底物，將所述電鍍材料用作靶材或藥物。二氧化硅光學(xué)鍍膜材料廠家襯底與目標(biāo)處于相同的真空中。鍍膜呢?幾百納米(或者說(shuō)是頭發(fā)的1%)的其他材料薄層附著在鏡片表面。

所以，真空室的潔凈度要提高。否則基片在鍍前就有灰塵附著，除產(chǎn)生其它不良外，對(duì)膜強(qiáng)度也有影響。(真空中基片上水汽的化學(xué)解吸溫度在260℃以上)。但不是所有的零件都需要高溫烘烤，有的硝材溫度高了反而膜強(qiáng)度不高還會(huì)有色斑產(chǎn)生。這與應(yīng)力以及材料熱匹配有較大的關(guān)系。

二氧化硅光學(xué)鍍膜材料