氟化鎂作為一種高科技的材料，現(xiàn)在已經被越來越多的領域廣泛應用，不僅是在陶瓷、玻璃等行業(yè)，而且也包括了 高分子化學儀器的熒光材料等。因此氟化鎂的制備一直以來受到廣大用戶們的關注，作為制備氟化鎂最主要的制備方法，電滲析法的流程優(yōu)化和技術革新也已經成為生產廠家必須解決的難題。

   在電滲析過程中除了陰陽離子在直流電的作用下發(fā)生電遷移和電極反應之外，二氧化硅光學鍍膜材料同時還伴隨著一些主要過程相反、對電滲析不利的次要過程。首先，反離子遷移，在進行電滲析時，陽離子穿過固定基團帶負電荷的陽離子交換膜和陰離子穿過固定基團帶正電荷的陰離子交換膜從淡室進入濃室的過程稱為反離子遷移過程，這也是電滲析的主要過程，只有通過反離子的遷移才能達到除鹽的目的。其次，同名離子遷移，與膜上固定基團帶相同電荷的離子穿過膜的現(xiàn)象，這是由于離子交換膜的選擇性不可能達到100%。這種遷移與反離子遷移相比，數(shù)量是很少的膜外溶液濃度越高，膜的選擇透過性越差，二氧化硅光學鍍膜材料廠家同名離子遷移也就越容易發(fā)生。電解質的濃度擴散，膜兩側出現(xiàn)濃度差時，離子就會從濃度高的一側向濃度低的一側擴散。擴散的速度隨著兩側濃度差的增大而加快。這一過程不消耗電量，但能使淡市的含鹽量增高，從而影響淡水的脫鹽率。

   為了能夠得到純度較高的氟化鎂，以便應用于高分子領域的光鍍膜材料，對于電滲析法的過程優(yōu)化是一個非常重要的環(huán)節(jié)。

它是一種在真空中蒸發(fā)或濺射金屬、合金或化合物，使其凝固并沉積在被涂物體上的方法。哪些材料不能真空鍍?普通玻璃不能，但平板耐高溫玻璃，直徑或寬度小于10-12cm，可以做真空鍍膜;鐵材料由于鐵的導磁性，鑒于磁控濺射的原理，涂層不能真空電鍍。

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