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二氧化硅光學鍍膜材料
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二氧化硅光學鍍膜材料
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用電滲析法制備高純度的氟化鎂二氧化硅光學鍍膜材料
2022-12-30
氟化鎂作為一種高科技的材料，現(xiàn)在已經(jīng)被越來越多的領域廣泛應用，不僅是在陶瓷、玻璃等行業(yè)，而且也包括了高分子化學儀器的熒光材料等。因此氟化鎂的制備一直以來受到廣大用戶們的關注，作為制備氟化鎂最主要的制備...
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真空條件下如何生成氟化鋁二氧化硅光學鍍膜材料廠家
2022-12-29
眾所周知，鋁是世界各國國民生產(chǎn)中的一種重要的輕金屬和結構材料。運輸業(yè)、建筑業(yè)和包裝業(yè)是鋁消費的幾大領域。為了解決鋁業(yè)發(fā)展的瓶頸，最近數(shù)年內(nèi)，人們對于各種煉鋁的新方法進行了研究，但是對于真空條件下的氟化...
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含氟化鎂電解質體系的研究二氧化硅光學鍍膜材料
2022-12-29
根據(jù)經(jīng)驗以及實驗數(shù)據(jù)的研究，結合實際的生產(chǎn)，提出如下的建議：（1）采用高氟化鎂含量的電解質，二氧化硅光學鍍膜材料電解質的分子比不能太低。（2）采用高氟化鎂含量的電解質在
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氟化鋁的揮發(fā)簡析二氧化硅光學鍍膜材料
2022-12-28
氟化鋁的揮發(fā)可以分為直接揮發(fā)和間接揮發(fā)兩種。直接揮發(fā)是指氟化鋁無液相，受熱直接升華我氣體，升華溫度隨著溫度的升高逐漸增大，氟化鋁的沸點溫度大約為1260攝氏度，在此溫度下，發(fā)生劇烈變化，直接揮發(fā)與槽溫和添
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氟化鎂增透膜的厚度均勻性控制二氧化硅光學鍍膜材料
2022-12-28
作為兩類最常見的真空蒸發(fā)鍍膜，熱電阻蒸鍍是將原料置于采用鉬、鎢等高熔點金屬制作成的蒸發(fā)舟上，通過電流加熱蒸發(fā)；電子束蒸鍍是將原料置于冷坩堝中，通過電子束加熱蒸發(fā)。由于氟化鎂的熔點較低，二氧化硅光學鍍膜...
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飛秒激光對氟化鎂的燒蝕機理二氧化硅光學鍍膜材料
2022-12-28
超短脈沖激光對材料的微加工和燒蝕機理是人們研究的熱點。氟化鎂是一種很好的紫外光窗口和光纖材料，有著廣泛的應用前景，但是目前尚未見到飛秒激光脈沖作用下氟化鎂燒蝕的研究。近年來研究表明，導帶電子的雙光子吸...
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